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做出來(lái)本身??就是極??????其困難的??。謝謝你們??????。但真正難??的,其實(shí)是把?????腦子里??????的想法,變成別???♂?人能理解、???能執(zhí)行的東西??。具體來(lái)看:光刻機(jī)???♀???需要實(shí)時(shí)操??作系統(tǒng)(R????TOS)????在納秒級(jí)時(shí)????間窗口????內(nèi)同步?控制掩模臺(tái)與晶圓????臺(tái)的協(xié)同運(yùn)動(dòng)???;刻蝕機(jī)??????依賴RTOS精?確監(jiān)控反應(yīng)終點(diǎn),????在微秒級(jí)內(nèi)切??斷等離子體以避??免過(guò)刻;薄?膜沉積設(shè)備(尤其??是原子層沉?????♂?積設(shè)備)要求??????RTO??S確保??前驅(qū)體脈沖??的精確時(shí)序,實(shí)現(xiàn)????原子級(jí)的厚度控?制;晶圓檢測(cè)??????設(shè)備需要RT???OS實(shí)時(shí)處理高?????速圖像數(shù)據(jù)流????,并與??????運(yùn)動(dòng)控制模塊協(xié)????同完成???缺陷定位;即便是??????清洗設(shè)備,也需???????要RT??OS精????準(zhǔn)控制藥????液濃度配???????abc.com比與機(jī)械手臂的節(jié)??拍協(xié)同??????。
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